Германия инвестира 659 млн. евро в четири нови съоръжения за електронно производство

18.08.2026   |   Начало»Проекти

Редактор
Мира Станкова

Редактор
Мира Станкова

Европейската комисия съобщи, че одобрява отпускането на подкрепа в размер на 659 млн. евро от страна на германското правителство за изграждането на четири първи по рода си съоръжения в микроелектронното производство. Според Комисията мерките ще допринесат за укрепването на позициите и автономията на Европейския съюз в сектора, подкрепяйки изграждането на уникални съоръжения в съответствие с целите на Законодателния акт за интегралните схеми (AI Chips Act) и политическите насоки на ЕК за 2024 – 2029 г.

Германия планира да отпусне 353 млн. евро на SME Element 3-5 за изграждането на съоръжение за производство на епитаксиални пластини от силициев карбид (SiC) в Северен Рейн-Вестфалия. Това са SiC пластини с много тънък, висококачествен слой, добавен върху пластината, за да се подобрят характеристиките й в сравнение със стандартните SiC пластини. Новият тип пластини се очаква да се използва в крайни приложения в различни сектори, включително в автомобилната индустрия, промишлеността, телекомуникациите и енергетиката. Проектът включва големи подобрения, особено в производствения процес, които да повишат енергийната ефективност, производителността и производствената ефективност в сравнение с метода Hot-Wall CVD.

Vishay Siliconix Itzehoe ще получи 214 млн. евро за съоръжение за производството на N- и P-канални силициеви захранващи MOSFET транзистори в Итцехое в Шлезвиг-Холщайн. Тези транзистори са предназначени за ефективно превключване или управление на високи напрежения и токове в захранващи електронни схеми. Те се използват главно в автомобилния сектор, но имат и промишлени и търговски приложения.

Изграждането на съоръжение за производство на оборудване за оптично наслагване и измерване на покрития на KLA-Tencor MIE във Вайлбург в Хесен ще бъде финансирано със 74,4 млн. евро. Това оборудване се използва за управление на процесите и качеството при масово производство на полупроводникови елементи, като позволява на производителите на пластини, на производствените мощности за тестване и корпусиране да постигнат по-големи производствени обеми и производителност.

KETEK ще получи 17,9 млн. евро за изграждането на съоръжение за производство на два типа високоспециализирани чипа – Silicon Drift Detectors (SDD) и Graphene Radiation Entry Windows (GREW), в Мюнхен в Бавария. SDD детекторите се използват за промишлени системи за сортиране и рециклиране. Проектът ще позволи създаването на детектори от следващо поколение чрез интегриране на две производствени линии в едно чисто помещение, като по този начин се очаква да се постигне по-голяма интеграция и ефективност в сравнение с настоящите решения.

Ключови думи: ЕК   AI Chips Act   SME Element 3-5   Vishay   KLA-Tencor MIE   KETEK   микроелектронно производство  

Област: Електроника